在智能手机、平板电脑、超清电视的光滑屏幕背后，ITO靶材（氧化铟锡）是赋予其透明导电魔力的核心材料。作为ITO靶材的关键成分，铟（In）的稳定供应直接关系到全球万亿级显示产业的命脉。然而，这种稀散金属的地缘分布不均（中国储量占全球70%以上）和原生矿产的有限性，使得铟的回收再利用不再是环保课题，更成为保障产业、实现供应链韧性的“闭环”革命。
闭环之困：损耗与机遇并存 ITO靶材在溅射镀膜过程中利用率通常仅30%左右，大量含铟废料（废旧靶材、边角料、镀膜腔室废料）随之产生。过去，这些价值的废料往往被简单处理或堆积。建立从“废靶材→再生铟→新靶材”的闭环体系，成为破解资源约束的黄金路径。
目前，ITO靶粉回收主要采用湿法冶金技术，其核心是通过溶液反应实现金属的提取和纯化。以下为几种常见方法： 1.酸浸法。使用盐酸或硫酸溶液对靶粉进行浸出，使铟和锡进入溶液。随后通过调节pH值或添加沉淀剂，使铟选择性沉淀。该方法操作简单，成本较低，但需注意废液的处理问题。 2.溶剂萃取法。利用有机溶剂选择性萃取溶液中的铟离子，实现与其他金属的分离。这种方法回收率高，产品纯度好，但工艺较为复杂，对设备要求较高。 3.电解法。通过电解的方式从含铟溶液中直接提取金属铟。该方法适用于高浓度铟溶液的回收，但能耗相对较高。 4.离子交换法。使用离子交换树脂吸附溶液中的铟离子，再通过洗脱获得纯化产物。该方法适合低浓度溶液的回收，但树脂的成本和再生问题需综合考虑。
随着电子行业的发展，ITO靶材的需求量逐年增长，推动了对废靶材回收的重视。目前，一些大型电子制造企业已开始建立自身的回收体系，或与专业回收公司合作，实现生产废料的循环利用。技术进步也使得回收效率和金属回收率不断提高，进一步降低了生产成本。