闭环之困：损耗与机遇并存 ITO靶材在溅射镀膜过程中利用率通常仅30%左右，大量含铟废料（废旧靶材、边角料、镀膜腔室废料）随之产生。过去，这些价值的废料往往被简单处理或堆积。建立从“废靶材→再生铟→新靶材”的闭环体系，成为破解资源约束的黄金路径。
铟在半导体、液晶显示器等电子器件的生产中发挥着重要作用。铟靶材通常用于物相沉积（PVD）工艺中，制造薄膜。然而，铟靶材的成本高昂，且供应有限，因此从废弃或用过的靶材中回收铟变得至关重要。
ITO靶粉回收是指通过物理和化学方法，从废弃的靶材或生产废料中提取有价值的金属成分，特别是金属铟，并进行再加工的过程。铟是一种稀有金属，资源有限，价格较高，因此回收利用显得尤为重要。
然而，回收产业仍面临一些挑战。例如，废料来源分散，收集和运输成本较高；一些中小型企业缺乏回收技术和资金支持；回收过程中的环保要求日益严格，企业需投入更多资源满足相关标准。