闭环之困：损耗与机遇并存 ITO靶材在溅射镀膜过程中利用率通常仅30%左右，大量含铟废料（废旧靶材、边角料、镀膜腔室废料）随之产生。过去，这些价值的废料往往被简单处理或堆积。建立从“废靶材→再生铟→新靶材”的闭环体系，成为破解资源约束的黄金路径。
铟在半导体、液晶显示器等电子器件的生产中发挥着重要作用。铟靶材通常用于物相沉积（PVD）工艺中，制造薄膜。然而，铟靶材的成本高昂，且供应有限，因此从废弃或用过的靶材中回收铟变得至关重要。
铟靶材回收的主要任务是将铟从靶材中的其他金属和材料中分离出来，并将其提纯至高纯度。回收方法包括火法、湿法和电化学法。 火法冶金工艺使用高温熔炼和精炼来回收铟。这种方法适用于大规模回收，但存在一些缺点，如产生危险废物、高能耗，以及可能损失有价值的铟。 湿法冶金工艺利用化学浸出剂将铟从靶材中溶解出来。这种方法比火法更环保，适用于从成分复杂的靶材中回收铟。然而，这一过程可能较为复杂，需要使用危险化学品。 电化学过程通过电流将铟从靶材中溶解和回收。这种方法也比火法更环保，可以回收较高纯度的铟。但这一过程可能较为复杂，需要专门的设备和专业知识。
提纯铟的方法包括蒸馏法、电解法和区域精炼法。蒸馏通过高温蒸发和冷凝来提纯铟。电解利用电流来提纯铟。区域精炼则通过移动的熔融区来提纯铟。